尺寸：800长×805宽×1900高
类型：加热水洗式
处理能力：400升/分钟
排污方式：自然排+泵强排
喷淋室：加压喷射
水处理方式：泵循环+自来水
冷却方式：动力冷却循环水
电源：220V、40A
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加热燃烧喷淋水洗式 尾气处理设备（SCRUBBER） 规格(mm) : 800(长)×805(宽)×1900(高) 处理量 : 400 SLM for 8″Wafer 无粉尘积聚问题 维护简便 采用防腐蚀材料与技术 采用循环系统减少水量消耗 电源 : 208VAC , 3 Phase , Max. 35A 压缩空气 : 1/4”, 5~7 kgf/cm2 , Max 180 LPM 冷却水 : 3/8”, 3~5 kgf/cm2 , Max 7 LPM 氮气 : 1/4”, 5~7 kgf/cm2 , Max 50 LPM 气体入口 :NW50 , 1 ~ 2 Port 排废 : NW100 排污水 : NW50 热排气 : 100mm Dimension(mm) : 800(W)×805(D)×1900(H) Capacity : 400 SLM for 8″Wafer No Powder Accumulation Problem Minimal Maintenance Requirement and Easy Maintenance Corrosion Resistant Technology and Material Reduction of Water Consumption by Circulation POWER : 208VAC , 3 Phase , Max. 35A CDA : 1/4”, 5~7 kgf/cm2 , Max 180 LPM CITY WATER : 3/8”, 3~5 kgf/cm2 , Max 7 LPM N2 : 1/4”, 5~7 kgf/cm2 , Max 50 LPM Gas Inlet : NW50 , 1 ~ 2 Port Exhaust : NW100 Drain : NW50 Thermal Exhaust : 100m 半导体尾气处理设备 该设备主要应用于半导体行业、TFT-LCD行业以及太阳能光伏行业中的蚀刻与CVD制程。主要处理气体包括刻蚀与化学气相沉积制程中常见的有毒腐蚀气体,包括SiH4、SiH2CL2 、PH3、B2H6、TEOS、H2、CO、NF3、SF6、C2F6、WF6、NH3、N2O等。在业界有应用广泛,运行与维护方便且成本低。 根据废气的不同性质,尾气处理方式: □湿法处理(Wet Scrubber):水喷淋吸收溶解,如NH3、CL2、HCL、BCL3、HBr等处理 □热湿处理(Thermal & Wet Scrubber):燃烧或电加热及湿法喷淋处理，能够完全彻底处理废气，如SiH4、Geh4、TEOS、DCS、PH3 、CF4、H2、WF6等处理 北京邦联成科技有限公司 T:010-51291655 F:010-51291658
